日本電子株式会社(代表取締役社長兼CEO：大井 泉、証券コード：6951)は、2023年2月1日よりFIB-SEMシステム「JIB-PS500i」を販売します。

先端材料の構造微細化やプロセスの複雑化に伴い、形態観察や元素分析などの評価技術にも高い分解能と精度が求められています。半導体業界をはじめ、電池・材料分野での透過電子顕微鏡(TEM)用試料作製においては、“高精度”且つ“より薄く”が要求されます。

本製品は、このニーズに応えるために高精度で加工できるFIB(集束イオンビーム加工装置)と高分解能を有するSEM(走査電子顕微鏡)の複合システムです。

■主な特長

1. FIB鏡筒は、最大電流100nAのGaイオンビーム照射ができます。大電流での加工は、特に広領域の観察・分析に必要な断面試料作製に威力を発揮します。また、短ワーキングディスタンス化と新開発の電源により低加速仕上げ加工時の性能も向上しました。

2. SEM鏡筒は、新開発のスーパーコニカルレンズシステムを搭載したことにより低加速電圧時の像分解能が大きく向上しました。コントラストの良い鮮明なSEM像が取得でき、薄片加工終点を見逃しません。

3. 大型チャンバーおよび新開発の試料ステージを採用し、可動範囲を増やしたことで、大きな試料にも対応できます。また、ステージの傾斜角を90度傾けて使用できるSTEM検出器を新規開発し、TEM試料作製からSTEM観察までシームレスに実行することができます。

4. 操作GUIは高分解能走査電子顕微鏡JSM-IT800シリーズで好評を頂いているSEM centerを搭載し、EDS分析フルインテグレーションを可能としました。

5. 二軸傾斜カートリッジと専用TEMホルダーにより、TEM-FIB間の試料搬送をより容易にしながら、高精度な方位合わせを可能にしました。

■主な仕様

＜FIB＞

像分解能　：3nm(30kV)

倍率　　　：x50～x300,000

加速電圧　：0.5～30kV

ビーム電流：1.0pA～100nA

イオン源　：Ga液体金属イオン源

加工形状　：矩形, 円, 多角形, 点, 線, ビットマップ図形

＜SEM＞

像分解能　：0.7nm(15kV)、1.4nm(1kV)

　　　　　　1.0nm(1kV, BDモード)

倍率　　　：x10～x1,000,000

　　　　　　(128mm x 96mm 写真サイズ表示時)

入射電圧　：0.01～30kV

ビーム電流：約1pA～500nA以上

電子銃　　：インレンズショットキーPlus電界放出電子銃

対物レンズ：スーパーコニカルレンズ

標準検出器：二次電子検出器(SED)

　　　　　　上方電子検出器(UED)

　　　　　　インレンズ反射電子検出器(iBED)

＜試料ステージ＞

試料移動範囲：X　130mm

　　　　　　　Y　130mm

　　　　　　　Z　1.0～40mm

　　　　　　　T　-40～93°

　　　　　　　R　360°

■本体標準価格

220,000,000円～(税込)

■販売予定台数

50台以上／年間

FIB-SEMシステム「JIB-PS500i」

製品URL： https://www.jeol.co.jp/products/scientific/fib/JIB-PS500i.html

■会社概要

社名　　： 日本電子株式会社(JEOL Ltd.)

所在地　： 〒196-8558　東京都昭島市武蔵野3-1-2

代表者　： 代表取締役社長兼CEO　大井 泉

設立　　： 1949年5月30日

資本金　： 213億9,418万円

事業内容： 理科学計測機器(電子光学機器・分析機器、計測検査機器)、

　　　　　 半導体関連機器、産業機器、医用機器の製造・販売・開発研究、

　　　　　 およびそれに附帯する製品・部品の加工委託、保守・サービス、

　　　　　 周辺機器の仕入・販売

URL　　 ： https://www.jeol.co.jp/

■本件に関するお客さまからのお問い合わせ先

日本電子株式会社　科学・計測機器営業本部

お問い合わせフォーム： https://www.jeol.co.jp/contacts/products.html